采购信息
快速热退火炉采购公示
来源：财务资产部
发布时间：2020-09-24
| 项目名称 | 先进半导体研究院 | ||
| 公示开始日期 | 2020年9月24日 | 公示截止日期 | 2020年9月28日 |
| 品名 | 快速热退火炉 | 技术参数及配置要求 | 1.工艺尺寸：4、6吋 衬底 2.金属外腔体：采用内壁镀“金”金属层能形成漫反射，集中光因子反射，有效集中光能量铝腔 3.灯管：设备采取高强度可见光上下成排红外卤素灯加热，可以分 4 个灯组控制，保证温度均匀重复可调 4.腔体冷却：水冷 5.工艺腔体： 可拆卸一体化 6.温度控制： 闭环温度控制 大于 800 度的时候测温精度：±1°C 测试方法：目测工艺实际温度曲线与设定曲线在控温阶段重合，偏差±1°C 小于 800℃要求反应速度是：0.125 秒的热电偶，测温精度：±1°C测试方法：目测工艺实际温度曲线与设定曲线在控温阶段重合，偏差±1°C 7.典型工艺温度范围： 400℃～1050℃ 8.升温速率： 10～100℃/sec(可编程) 9.降温速率： 硅衬底 10～100℃/sec(不可编程) 10.温度控制重复性：±2℃（在温度为 1050℃，测量 5 片）检测方法：连续 5 次相同工艺，控温阶段曲线基本保持一致 11.温度测量的精确度：±1℃（100℃～1050℃）测试方法：目测工艺实际温度曲线与设定曲线在控温阶段重合，偏差±1°C 12.颗粒： ＞0.3um，＜20ea 13.温度控制均匀性：采用 RTO 工艺测量膜厚（5 个点）U%≤5%（1100±50℃的工艺温度） 14.工艺曲线：不能有过冲（over shoot）和下冲(under shoot)的现象。 |
| 预算金额 | ¥498,000.00 | 供应商 | Allwin21 Corp. |
| 经办人 | 冉老师 | 联系电话 | 0571-82395260 |
对以上公示内容有异议的，请于公示截止日前以实名书面（包括联系人、地址、联系电话）形式将意见反馈至浙江大学杭州国际科创中心财务资产部（联系电话：0571-82359109；0571-82359101）。
