最新动态

 

10月19日上午，中国工程院院士、浙江大学微纳电子学院院长吴汉明亮相第三期“科创大讲堂”，以“集成电路芯片制造中等离子体科学的应用”为主题，为大家带来了一场有料又有趣的学术讲座。浙江大学杭州国际科创中心（以下简称科创中心）、浙江大学微纳电子学院师生员工参加讲座。讲座同步在云端开讲，为热爱集成电路事业的小伙伴传递科创之声。

吴院士围绕主题，结合实际案例，从什么是等离子体，等离子体的分类、产生、应用及参数，等离子体对集成电路芯片制造的重要性、优越性等方面，层层揭开等离子体的“面纱”，让大家对等离子体有了更加系统直观的了解。

吴院士在讲座中指出，等离子体刻蚀是整个工艺流程最具挑战性的技术之一，刻蚀工艺中涉及的问题是多学科交叉的领域，包括物理、化学、力学、数学、材料和系统控制等，而交叉学科的价值正是在成套工艺中得到体现。当前，科创中心正在建设的浙江省集成电路创新平台是成套工艺技术公共创新平台，为推进学科交叉研究、产教融合、科教协同创造了良好的条件。

吴院士还通过讲述自己丰富的产业经历谆谆告诫大家：理论研究是基础，只有基础夯扎实，我们的学术研究和产业发展才能走得更远。我们只有解决了集成电路芯片制造中“卡脖子”的技术难题，才能在关键领域关键技术上打破国外垄断，实现科技自立自强。

讲座结束后，现场观众还与吴汉明院士进行了热烈交流与讨论。大家纷纷表示，讲座内容深入浅出，对开拓研究思路以及实际操作都颇有启发，希望能学以致用，用自己的专业所学为中国的集成电路事业贡献一份力量。