■ 简要介绍
实现SOI晶元与薄膜铌酸锂的直接键合。晶圆尺寸达到4英寸和6英寸,为晶元级SOI与薄膜铌酸锂键合奠定工艺基础,研制成功耐受功率>1W的芯片样片,国内首次实现8路激光相控阵共相相干合成实验验证,为远距离激光雷达应用奠定坚实基础。目前团队研发了硅上氮化硅异质集成工艺及平坦化技术,改善了天线的出光质量;结合光学天线设计研发了背向键合工艺,使天线的效率进一步提升(出射效率90%以上);开发了背向多层电极工艺,实现了波导层的双面布线能力,提升了芯片的电学fanout的能力和集成度;突破了大规模、高密度flip-chip封装工艺,尺寸≤38mmx29mm,极大地降低了封装模块尺寸。
■ 应用场景
激光雷达、光通信


