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人才全部分类

科创人才

王蓉博士

特聘研究员
单位:先进半导体研究院
电话:18258289962
职务:半导体材料研究室课题组长PI,“求是科创学者计划”、“青年人才卓越计划”入选者
地址:科创中心信息港园区3309-5
邮箱:rong_wang@zju.edu.cn
研究方向:半导体中的杂质与缺陷

个人简介 科研成果 专利成果

王蓉,博士,特聘研究员,浙江大学科创中心求是科创学者计划、青年人才卓越计划入选者。就职于杭州国际科创中心先进半导体研究院材料研究室。2009年本科毕业于中国矿业大学,2009-2014年在浙江大学硅材料国家重点实验室完成研究生学习,取得博士学位。2015-2020年先后任职于太原理工大学、中国工程物理研究院电子工程研究所。王蓉博士长期从事半导体材料中杂质与缺陷的研究。近年来,以第一作者或通讯作者在ACS Appl. Mater. Interfaces、J. Mater. Chem. C、Phys. Rev. Applied、IEEE Trans. Electron Devices、Appl. Phys. Lett.等国际知名期刊发表SCI论文20余篇。主持国家自然科学基金青年基金项目、博士后基金、科学挑战计划专题等多项科研基金。此外,担任多项国际知名期刊的审稿人。

主要研究兴趣:

半导体中的杂质与缺陷


荣誉及奖励:


王蓉围绕半导体碳化硅的缺陷开展研究工作,揭示了碳化硅中位错的电学性质及其形核与演变机理;发现了碳化硅中利用杂质调控位错和碳空位等缺陷的性质的规律;进而开发了高质量碳化硅单晶生长和薄膜外延技术并实现了其产业化应用。近5年来,发表了80 余篇SCI 论文,其中第一作者或通讯作者论文43 篇;获得了26项授权的中国发明专利和2项授权的美国发明专利;转让/许可了6项专利,2项关键技术进入中试应用阶段,实现了超过5千万元的产值。