一、课题组简介
实验室简介: 实验室简介: 浙江大学杭州国际科创中心先进半导体研究院半导体材料研究室专注于宽禁带半导体材料相关的基础研究，重点突破以碳化硅、氧化镓和金刚石为代表的宽禁带半导体的生长、加工、外延及成套装备，解决一系列宽禁带半导体领域的“卡脖子”技术难题，推动宽禁带半导体材料的快速发展，提高我国在宽禁带半导体领域的国际竞争力和影响力。研究室以中科院院士杨德仁教授、皮孝东教授为学术带头人，已有成员50多人。拥有中国科学院院士1人、浙江大学和浙江大学杭州科创中心双聘教授2人、科创百人5人、博士后和技术开发专家21人，工程师13人，博士占比54%。研究室成立至今在Advanced Functional Materials、Physical Review Applied、Applied Physics Letters、ACS Applied Materials and Interfaces、Journal of Materials Chemistry A、 Journal of Materials Chemistry C、Advanced Electronic Materialsl等国际期刊发表SCI论文40余篇，申请国家发明专利70余项，其中授权12项，申请实用新型专利30余项，其中授权17项。
主要负责人简介：李东珂，求是科创学者（“科创百人计划”研究员），浙江大学杭州国际科创中心先进半导体研究院半导体材料研究室。2018年于南京大学电子科学与工程学院获得工学博士学位（师从徐骏教授），2022年加入浙江大学杭州国际科创中心先进半导体研究院。近年来的研究方向主要包括硅基微纳结构材料的可控制备、硅基纳电子与光电子器件，发表SCI等收录论文30余篇，主持多项国家与省部级科研项目；入选为江苏省物理学会第十五届青年工作委员会、江苏省双创博士（世界名校类）、淮安市第三届十大科技之星等。
二、重点引进方向:
碳化硅的外延生长与掺杂（满足其一即可）
1.碳化硅外延层的生长和制备；
2.碳化硅的生长与掺杂动力学研究；
3. 碳化硅中杂质的掺杂机制与行为表现特征研究；
4.基于碳化硅外延薄膜的光电子器件开发与设计。
三、申请条件:
1.具有物理、材料、微电子、光电等相关学科背景和科研经验，从事过交叉学科研究者优先考虑；
2.近五年内获得博士学位，品学兼优，身心健康；
3.保证全职从事博士后研究工作；
4. 具有良好的团队合作意识和英语听说读写能力。
四、待遇及保障条件:
1.根据科研工作能力提供具有竞争力的薪酬（含地方政府人才补助），具体面议（应届博士毕业生另可获得杭州市应届生生活补贴10万元）；
2.对获得中国博士后科学基金资助和省级博士后科研项目资助的，杭州市、萧山区分别给予相应配套资助；
3.提供一流的实验与科学研究条件；
4.协助申请杭州市、萧山区人才配套用房；
5.工作期间表现优秀、业绩突出者，如符合相应要求，可优先推荐申请科创中心“求是科创学者”岗位或技术开发岗位；
6.在站期间，符合条件者可申报科创中心相关系列高级专业技术职务；出站优秀者入职科创中心的可认定副研究员职称，并可获得地方政府80万人才补贴。
五、申请材料:
1.个人简历；
2.表明研究能力和学术水平的成果（如：获奖情况、鉴定、项目、学术论文等）及佐证材料；
3.博士学位论文。
申请人将以上材料电子版发送至科创中心先进半导体研究院邮箱：ldkest@zju.edu.cn，附件和邮件主题均以“李东珂课题组+博士后+姓名”标明。